| 技术参数 1. 高通量Zeiss光学系统 2. 波长范围：190-900nm，可变狭缝0.2、0.5、0.8、1.2nm 3. 自动6灯转换 4. 横向加热石墨炉技术，加热速率可达3000度/秒 5. 三磁场塞曼扣背景，磁场方向可调，磁场强度0-1T可调，同时可选择2-磁场模式 6. 可固体进样 主要特点 1.紧凑型设计，石墨炉电源内置 2.采用的横向加热石墨炉技术 3.*的液体和固体石墨炉分析系统 4.配置3-磁场塞曼背景校正 5.氢化物-石墨炉直接联用 6. ZEEnit650可同时配置三磁场塞曼和氘空阴极灯背景校正技术 | 产品图片 |
