性能特点
分析速度快
重复性及稳定性好
高稳定的激发光源，激发频率150-600Hz，根据分析材质选用不通的频率，达到*分析效果。
可以用于多种基体分析：Al,Pb,Mg,Zn,Sn,Fe,Co,Ni,Ti,Cu等基体
技术指标
光路型式：Paschen-Runge型；
凹面光栅：曲率半径 998.8mm
刻线密度 2160 L/mm
工作波长范围：170-463nm
逆线色散：0.46 nm/mm
入缝宽度：20 μm
出缝宽度：70μm
zui多通道：50个
分光仪恒温：38°C
分光仪真空：<10 Pa
光室：真空，防返油技术；
光学系统恒温38℃±0.1℃；
激发光源：高能预火花技术，可调的放电参数，计算机控制；
火花台：zui小氩气用量的冲氩式激发室；
电路安全保护：有；
接口：串口、USB；
上位机：PC
标准配置
数据处理：通过USB接口将数据传输到计算机上，传输数据大、速度快，适合炉前快速分析；
光电倍增管：将光信号（光子）转换电信号，转换效率高；
火花电源：激发电源15KV，激发稳定，是脉冲控制试的火花电源；
负高压电源：自主研发稳定的负高压电源，稳定性好，负载调整率好，可以根据负载（光电倍增管）的大小，自动调节；
数据处理控制单元：采用单片机+可编程逻辑器件（FPGA）+USB接口，实现快速的数据采集和处理；
应用领域
黑色金属及有色金属成分的快速定量分析
治金、机械及其他工业部门
进行炼炉前的快速分析以及中心实验室的产品检验
可以用于多种基体分析：Al,Pb,Mg,Zn,Sn,Fe,Co,Ni,Ti,Cu等
