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上海依肯机械设备有限公司
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*阻燃剂分散机采用德国博格曼双端面机械密封，可以处理量大，运转更平稳，拆装更方便,适合工业化在线连续生产，粒径分布范围窄，分散效果佳，*，物料*通过分散剪切。
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上海依肯/IKN分散设备，胶体磨+分散机的*设计，处理物料粒径更小，分散更均匀。
*作为阻燃剂具有许多*的优点，且来源丰富，价格低廉，应用范围广，品种多。但也具有和高分子聚合物相容性差、不对聚合物起增强作用、分解温度低、不适于加工高于200℃的塑料制品的缺点，因此研究其粒度超细化、表面改性处理技术、协同复合技术、纳米技术正成为世界各国研究者的热点问题。
*的超微细化增加了*的表面积，使粒子表面蒸气压降低，明显增强阻燃效果，同时提高材料制品的力学性能和耐热性能。
然而，要获得超细的*助燃剂混悬液就必须使用高品质的分散设备，传统的分散设备，一方面无法将*浆料进一步细化，另一方分散效果不佳。上海依肯/IKN结合多家阻燃剂厂家，可知，采用IKN的CMSD2000系列研磨分散机对*浆料进行进一步的研磨和分散，粒径更小，分散更均匀。
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IKN/依肯研磨分散机是将胶体磨和分散机一体化的设备，先研磨后分散机，因为*分散到水中或者溶剂当中，会形成二级团聚体，软团聚。需要先将团聚体打开再进行分散。IKN/依肯研磨分散机二级工作组，转速高达14000rpm，剪切力强，分散更*。
CMSD2000系列研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
CMSD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。初级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
CMSD2000系列研磨分散机的特点：
① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
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研磨分散机的特点：
更稳定 采用优化设计理念，将先X的技术与创x的思维有效融合，并体现在具体的设备结构设计中，为设备稳定运行提供了保证.
新结构 通过梳齿状定子切割破碎，缝隙疏密决定细度大小，超高线速度的吸料式叶轮提供*切割力，纤维湿法研磨破碎可达400目.
更可靠 采用整体式机械密封，zui大程度上解决了高速运转下的物料泄漏以及冷却介质污染等问题，安装与更换方便快捷.
新技术 采用国x先x的受控切割技术，将纤维类物料粉碎细度控制在设定范围之内，满足生产中的粗、细及超细湿法粉碎的要求.
CMD2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量的10%
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