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石墨稀、碳纳米管材料CVD设备

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产品型号KJ-T1050-CVD-LZ

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所在地郑州市

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更新时间：2025-05-12 11:24:04浏览次数：45次

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郑州科佳电炉有限公司

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产品简介

产品介绍：KJ-T1050-CVD-LZ型石墨稀、碳纳米管材料CVD设备由管式炉+真空系统+供气系统+水冷系统组成，温度可以达到1050度,可以是单温区、双温区、三温区等，极限真空可以达到10-3Pa，供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计，混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合

详细介绍

产品介绍：
KJ-T1050-CVD-LZ型石墨稀、碳纳米管材料CVD设备由管式炉+真空系统+供气系统+水冷系统组成，温度可以达到1050度,可以是单温区、双温区、三温区等，极限真空可以达到10-3Pa，供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计，混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合。
管式炉采用掺钼合金加热丝为加热元件，采用双层壳体结构和宇电控温仪表，能进行30段程序控温，移相触发、可控硅控制，炉膛采用日本进口氧化铝多晶纤维材料，具有温场均衡、表面温度低、节能等优点。
软件控制系统：该炉配有通讯接口和软件，可以直接通过电脑控制炉子的各个参数，并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况，炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出，并能把每个时刻的温度数据保存起来，随时可以调出。

应用范围：
该设备主要用于石墨稀、納米材料工艺涂层、多晶硅、碳化硅、扩散、氧化、退火等工艺。
　　　
参数详情：

产品名称	石墨稀、碳纳米管材料CVD设备
产品型号	KJ-T1050-CVD-LZ
炉型结构	卧式、单管或多管系统自动控制
适应晶片尺寸	50--200mm
取片方式	自动悬臂石英推拉舟，配合手动取、放片
温度	1050℃
极限真空度	优于1Pa
温度稳定性	400℃~850℃≦+-0.5℃/24h
抽速	抽限真空时间15min左右
供电电源	380V 50Hz 三相五线
选配	冷却水：2~4KGF/c㎡,8L/min
更多规格可根据需求定制

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