水质标准：电阻率≥15MΩ.cm,达到中国电子Ⅱ级用水标准
电阻率≥18MΩ.cm,达到中国电子Ⅰ级用水标准
工艺：一级反渗透 混床
标准配制：原水→原水箱→原水泵→絮凝剂装置→机械过滤器→活性炭过滤器→阻垢剂装置→保安过滤器→高压泵→反渗透装置→中间水箱→中间水泵→混床→纯水箱→输送泵→紫外/臭氧杀菌→终端过滤→用水点（另配RO膜清洗装置）
电子级超纯水中国标准（GB/T11446.1-1997）
www.qkhb.net/products/product_37.html| 项目 级别 | 比电阻 MΩ.cm | 硅 ≤ μg/L | >1μm微粒数＜个/ml | 细菌个数＜个/ml | 铜≤ μg/L | 锌≤ μg/L | 镍≤μg/L | 钠≤ μg/L | 钾≤ μg/L | 氧≤ μg/L | 硝酸根≤ μg/L | 磷酸根≤ μg/L | 硫酸根≤ μg/L | 总有机碳≤ μg/L |
| EW-Ⅰ | 18（95%的时间不低于17） | 2 | 0.1 | 0.001 | 0.2 | 0.2 | 0.1 | 0.5 | 0.5 | 1 | 1 | 1 | 1 | 20 |
| EW-Ⅱ | 15（95%的时间不低于13） | 10 | 5 | 0.1 | 1 | 1 | 1 | 2 | 2 | 1 | 1 | 1 |
系统特点：
●系统采用全自动控制（同时亦可采用手动控制），系统运行时可设定自动反洗、再生程序；
●一级反渗透和二级反渗透设有回流管道，反渗透设备设有化学清洗装置和消毒装置；
●在一级反渗透和二级反渗透间设有PH调节装置，以保证设备产水电导率符合药典要求；
●二级反渗透膜采用带正电荷的抗污染反渗透膜，以保证反渗透设备能*稳定运行；
●一级反渗透管路采用304不锈钢材料，二级反渗透采用316L不锈钢材料；
●在*级反渗透和第二级反渗透设备中均装有在线电导检测仪表，产水电导率可随时观看；
●一级反渗透前设有低压保护开关，二级反渗透前设有低压保护和高压保护开关；
●一级、二级反渗透水回收率可调整，一级反渗透回收率60％－65％，二级反渗透回收率70％；
●前处理装置均采用*件；前处理设备间管路采用UPVC管材。
●纯化水储水罐带呼吸过滤器，输送管道装有紫外线杀菌器和微孔过滤器，保证纯水符合卫生要求;
光电行业水质标准：
我公司电子级超纯水设备出水水质*符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
光电行业对水质的要求：
新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
应用场合：
☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；
☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏；
☆高品质显像管、萤光粉生产；
☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；
☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料；
☆实验室和中试车间；
☆汽车、家电表面抛光处理；
☆光电产品；
☆其他高科技精微产品；
典型电子级超纯水制备工艺： ☆预处理----反渗透----水箱----阳床----阴床----混合床----纯水箱----纯水泵----紫外线杀菌器----精制混床----微孔膜过滤器----用水对象
☆预处理----一级反渗透----pH调节装置----中间水箱----二级反渗透----纯水箱----纯水泵----紫外线杀菌器----微孔膜过滤器----用水对象
☆预处理----二级反渗透----中间水箱----水泵----EDI装置----纯水箱----纯水泵----紫外线杀菌器----微孔膜过滤器----用水对象 新工艺
☆预处理----二级反渗透----中间水箱----水泵----EDI装置----纯水箱----纯水泵----紫外线杀菌器----抛光混床----TOC分解器----微孔膜过滤器----用水对象 工艺
我公司电子级超纯水设备出水水质*符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
光电行业对水质的要求：
新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
应用场合：
☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；
☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏；
☆高品质显像管、萤光粉生产；
☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；
☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料；
☆实验室和中试车间；
☆汽车、家电表面抛光处理；
☆光电产品；
☆其他高科技精微产品；
典型电子级超纯水制备工艺： ☆预处理----反渗透----水箱----阳床----阴床----混合床----纯水箱----纯水泵----紫外线杀菌器----精制混床----微孔膜过滤器----用水对象
☆预处理----一级反渗透----pH调节装置----中间水箱----二级反渗透----纯水箱----纯水泵----紫外线杀菌器----微孔膜过滤器----用水对象
☆预处理----二级反渗透----中间水箱----水泵----EDI装置----纯水箱----纯水泵----紫外线杀菌器----微孔膜过滤器----用水对象 新工艺
☆预处理----二级反渗透----中间水箱----水泵----EDI装置----纯水箱----纯水泵----紫外线杀菌器----抛光混床----TOC分解器----微孔膜过滤器----用水对象 工艺
部分产品规格：
| 型 号 | 产水量（M3/H） | 管 径（mm） | 工作压力（MPa） | 材 质 | 工作方式 |
| MOLELCTRON-0.5 | 0.5 | DN20 | ≤1.6 | 不锈钢/碳钢 | 全自动/半自动 |
| MOLELCTRON-1 | 1 | DN25 | ≤1.6 | 不锈钢/碳钢 | 全自动/半自动 |
| MOLELCTRON-2 | 2 | DN32 | ≤1.6 | 不锈钢/碳钢 | 全自动/半自动 |
| MOLELCTRON-3 | 3 | DN40 | ≤1.6 | 不锈钢/碳钢 | 全自动/半自动 |
| MOLELCTRON-5 | 5 | DN50 | ≤1.6 | 不锈钢/碳钢 | 全自动/半自动 |
| MOLELCTRON-10 | 10 | DN75 | ≤1.6 | 不锈钢/碳钢 | 全自动/半自动 |
| MOLELCTRON-20 | 20 | DN100 | ≤1.6 | 不锈钢/碳钢 | 全自动/半自动 |
| MOLELCTRON-30 | 30 | DN125 | ≤1.6 | 不锈钢/碳钢 | 全自动/半自动 |
| MOLELCTRON-40 | 40 | DN150 | ≤1.6 | 不锈钢/碳钢 | 全自动/半自动 |
| MOLELCTRON-50 | 50 | DN200 | ≤1.6 | 不锈钢/碳钢 | 全自动/半自动 |
环保在线