洁净室的洁净等级，有一*的标准，以class10为例，意谓在单位立方英呎的洁净室空间内，平均只有粒径0.5微米以上的粉尘10粒。所以class后头数字越小，洁净度越佳，当然其造价也越昂贵。
为营造洁净室的环境，有专业的建造厂家，及其相关的技术与使用管理办法如下：
1、内部要保持大于一大气压的环境，以确保粉尘只出不进。所以需要大型鼓风机，将经滤网的空气源源不绝地打入洁净室中。
2、为保持温度与湿度的恒定，大型空调设备须搭配于前述之鼓风加压系统中。换言之，鼓风机加压多久，冷气空调也开多久。
3、所有气流方向均由上往下为主，尽量减少突兀之室内空间设计或机台摆放调配，使粉尘在洁净室内回旋停滞的机会与时间减至zui低程度。
4、所有建材均以不易产生静电吸附的材质为主。
5、人体及衣物的毛屑是一项主要粉尘来源，为此务必严格要求进出使用人员穿戴无尘衣，除了眼睛部位外，均需与外界隔绝接触（在次微米制程技术的工厂内，工作人员几乎穿戴得像航天员一样。）当然，化妆是在禁绝之内，铅笔等也禁止使用。
6、除了空气外，水的使用也只能限用去离子水。一则防止水中粉粒污染晶圆，二则防止水中重金属离子，如钾、钠离子污染金氧半（MOS）晶体管结构之带电载子信道，影响半导体组件的工作特性。去离子水以电阻率来定义好坏，一般要求至17.5MΩ-cm以上才算合格；为此需动用多重离子交换树脂、RO逆渗透、与UV紫外线杀菌等重重关卡，才能放行使用。由于去离子水是*的溶剂与清洁剂，其在半导体工业之使用量极为惊人！
7、洁净室所有用得到的气源，包括吹干晶圆及机台空压所需要的，都得使用氮气（98），吹干晶圆的氮气甚至要求99.8以上的高纯氮
以上几点说明是zui基本的要求，另还有污水处理、废气排放的环保问题，再再需要大笔大笔的建造与维护费用!
