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作为一种绿色的消毒技术，紫外线（UV）消毒已经被认可并开始应用于污水处理。由于受到形态结构等因素的影响，实际UV消毒器的水力条件很难达到理想的推流状态，故反应器内个部分水流的停留时间并不相同；此外，因处理水中部分污染物对UV的吸收，消毒器内的UV剂量分布也不均匀，从而影响了UV的消毒效果。因此，有必要对反应器的水力特性进行研究。
当紫外线消毒器的长径比较大时，径向尺寸的影响基本可以忽略，进口垂直或平行于反应器主体已及进出口位于反应器的同侧或异侧对水力特性没有显著的影响。
随着雷诺数Re的增大，紫外线消毒器的其它水力特性参数总体上呈增加的趋势，水流的拖尾现象也随之被弱化，水流状态逐渐接近推流，因而在相同的UV剂量下，增大雷诺数可以提高反应器的消毒效果。
利用CFD技术模拟水流在UV消毒器内的流场，计算累计停留时间分布F（t）并与示踪试验相比较，结果表明CFD模拟能够较好地反映UV消毒器的实际水力条件，二者F（t）的差别主要是由于示踪试验中的实际条件偏离理想条件所致。随着雷诺数的增加，反应器的各部分水流F（t）之间的差别在逐渐缩小。
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