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北京哲勤科技有限公司
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美国IST（ Integrated Surface Technologies）公司 具有权的 Repellix 原子层沉积表面改性设备，使用ALD原子层沉积的方法，在分子级水平改善材料表面性质，可使材料具有亲水（提高表面能）、疏水（降低表面能）、超疏水、防水防油、生物兼容性能，且持续时间长。
此设备广泛应用于MEMS、纳米压印、微流控、生命科学、电子产品等领域。
美国ist(integrated surface technologies)公司 repellix 原子沉积表面改性(亲水、超疏水、防水设备）
——美国ist公司为pva tepla的战略合作公司
型号：rpx-210, rpx-540, rpx-560
典型应用:
表面改性（微流控芯片管道表面改性）
mems表面抗粘合层（提高mems器件的抗摩擦性）
半导体制造和封装涂层
dna微阵列
生物兼容性改性
亲水 μ流体薄膜
疏水保护薄膜（）
提高表面粘附性
无机氧化物原子沉积
控制：
pc精密控制，形成单分子层，可设置连续或交替进行。
灵活的控制系统，允许自行设计工艺，形成特色纳米结构。
同一设备更换不同单体可完成不同工艺。
优势：
灵活的工艺步骤
自然沉积，均匀性*
重复性好
低成本
适用大批量生产
配置：
腔体大小：317.5×243.84×254 mm
运行真空度：10 torr（100℃）
腔室温度：85℃
设备大小：1016×965.2×914.4 mm
回充气体：n2 或cda (5.5 bar)
pc控制
多达32,000可编程步骤
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