就镀膜工艺而言，真空技术的应用体现在哪些方面？

在许多镀膜工艺中（例如：金属、塑料或玻璃以蒸汽形态沉积），真空技术扮演着决定性的作用。在很多情况下，离开真空，就无法实现这些工艺。一般在工艺开始之初，对腔室施加中度或高度真空，以便真空排气，再抽除反应气体或者气化固体原材料。

这些镀膜工艺都有一个共同的要求：腔室必须保持*符合镀膜工艺要求的中度或高度真空。这些镀膜工艺有助于改变材料的表面特征，例如硬度或耐腐蚀性。此外，真空镀膜也可以改善材料的附着性或湿润性，或者让材料表面保持大疏水性或亲水性。

普诺克真空泵的哪些真空解决方案尤其适合镀膜工艺？

我们提供大量不同的镀膜工艺真空解决方案，除了独立式真空泵，也供应全套真空系统。C单级旋片真空泵特别适用于镀膜工艺，实践证明，普诺克旋片真空泵结合罗茨真空泵是中度真空镀膜应用的标准解决方案。普诺克还可提供各种型号的变距螺杆真空泵和罗茨真空泵，使真空系统的设计*达到镀膜工艺的要求。如果需要高度真空，我们有涡轮分子真空泵和扩散真空泵，将这类泵与前级泵组合即可满足镀膜工艺要求。

普诺克真空泵在镀膜工艺中的应用范例：

物理气相沉积（PVD）

化学气相沉积（CVD )

等离子增强沉积

金属镀膜