随着社会的发展，电子行业越来越普及。在电子集成电路的生产过程中，几乎每道工序都需要超纯水进行清洗。一方面芯片在加工过程中的微量玷污得到清洗，而另一方面超纯水中的微量杂质又可能使芯片再污染，无疑对产品有着很大的影响。随着集成电路程度的进一步提高，对超纯水的要求亦更加严格。

　　超纯水是将水中的导电介质除去的水，作为集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗。此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。但是现有超纯水技术系统中，运行成本高，生产水质不稳定，而且使用化学药品多，容易产生污染。

　　为有效弥补传统工艺中的不足，莱特莱德采用“微砂多级过滤系统+Neterfo-GA极限分离系统(亚渗透)+Neterfo-HRLE极限分离系统+Clean-EDI系统"的超纯水系统处理工艺，采用低压循环再生模式，低能耗，模块恢复性能佳。且在更换树脂床或使用化学试剂进行树脂再生时并不需要关闭系统，很大限度地减少了水的质量不稳定因素，同时简化了操作和基建成本。其技术特点如下：

　　1、综合考虑系统进水水质情况及为保证膜分离系统的稳定运行，本项目设计采用双层双级微砂过滤系统，以保证微砂过滤系统处理后的水满足膜系统的进水水质要求。

　　2、Neterfo极限分离系统是一套膜法深度处理回用系统，该系统搭载了错流PON耐污染技术、POM宽流道高架桥旁路等多项技术，可实现低压系统运行与高回收率并存。

　　在电子集成电路生产过程中，几乎每一步、每一个环节都离不开超纯水的应用，因此超纯水被称为电子集成电路行业的“粮食"。Neterfo-HRLE系列极限分离系统可截留TDS、COD，中高运行压力下拥有较高的脱盐率，通过优异的系统设计实现低能耗和高回收率，为电子集成电路行业用水提供技术保障。