由于晶圆生产耗水量巨大,所以晶圆制造较为集中的城市必定遍布长江、太湖和运河水系。一个生产40K晶圆的大型工厂,每天投产用水高达1.82万吨,接近一个6万人口的小型城镇一天用水量。

在晶圆生产过程中所需的零配件上会残存细微分子,需要成吨的超纯水反复清洗,整个清洗循环过程约占芯片制造整体工序步骤的30%以上,是芯片制造工艺步骤占比最大的工序。如果清洁参数无法达标,遗留的超微细颗粒污染物、金属残留、有机物、光阻掩膜等将成为污染源,迈入高阶制程后,易导致后续工艺失败、电学失效,最终造成芯片报废,直接拉低整条生产线的良品率,给厂商造成巨额的经济损失。

超纯水纯度影响产品良品率

对于半导体产业而言,超纯水的纯度是确保高效生产的基石之一,工艺的稳定性直接影响产品的质量和生产效率,与产品良品率及经济效益密切关联,更是下游客户选择合作方的关键指标。

高度提纯的超纯水几乎不导电,不会影响电子产品的性能,同时水中不含金属离子,也可避免对复杂芯片表面造成划痕或者不可逆的影响。假若因为超纯水纯度不达标,在晶圆制造环节中有污染物未能清除,轻则影响晶圆良品率,重则导致成批晶圆报废。

莱特莱德专注于超纯水生产工艺多年，超纯水设备凭借显著优势在芯片生产中应用广泛。超纯水设备结合反渗透膜分离技术和EDI技术制备超纯水。与传统工艺相比，该工艺运行成本低且运行可靠，整体化程度高、易于扩展、增加膜数量即可增加处理量。自动化程度高，遇故障立即自停，具有自动保护功能。膜组件为复合膜卷制而成，具有较高的溶质分离率和透过率。能耗低、水利用率高、运行成本低。

莱特莱德超纯水设备采用预处理、反渗透技术、EDI技术和后处理方法，几乎去除水中的导电介质，去除非游离胶体物质，水中的气体和有机物含量很低。莱特莱德超纯水设备具有出水连续、无酸碱再生、无人值守、安装简单、操作方便等优点。出水水质符合半导体行业相关标准。