随着现代电子技术的快速发展，电子产品已经成为人们日常生活中*的工具，其中短、小、轻、薄已经成为了电子产品的主要发展方向，这也给电子制造工艺及清洗用水标准带来了很大的挑战：非极性污染物(松香树脂和油等)、极性污染物(助焊剂活性剂和盐等)及颗粒状污染物的残留，会直接造成印制板和元器件表面漏电、短路、断路或形成腐蚀导致失效，必然会影响电子工艺的顺利实施或产品的质量和可靠性。因此，必须在工艺实施的环节中加入清洗工序。我国早在1957年制订了电子级纯水标准，至今要求电子级标准2002年标准为18. 3M Ω . cm (温度25°C )，达到电子级超纯水的理论值。

　　电子级超纯水是指原水中的导电质几乎*去除，水中不解离的胶体物质、气体、微生物及有机物的含量降至较低的程度。常用于集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等，此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路和真空管等的制作也都要使用超纯水。