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沈阳科晶自动化设备有限公司


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VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪

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更新时间:2020-12-18 12:32:49浏览次数:187次

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商铺产品:980条

所在地区:辽宁沈阳市

联系人:金 (经理)

产品简介

VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪

详细介绍

产品简介:VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪,包含一个2英寸水冷靶头(另有1英寸靶头可选)和可旋转样品台。水冷靶头使镀膜后的样品表面不会因镀膜温度过高而变形,甚至损坏样品;样品台可旋转,可以使样品边旋转边镀膜,使镀膜后的样品表面膜厚均匀。设备外形小巧,性价比高,是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空泵搭配设备使用。VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪采用PLC控制面板对设备进行控制,操作方便直观。

 

VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪操作视频

 

产品型号

VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪

技术参数

1、输入电源:220VAC 50/60Hz

2、溅射电流:0-150 mA可调

3、功率:<2KW

4、输出电压:1600VDC(max)

5、溅射腔体

(1).采用石英腔体,尺寸:166mm OD x 150mm ID x 290mm H

(2).密封:采用O形密封圈密封

6、溅射头&样品台

(1).二英寸带水冷的磁控溅射头(注意:水冷机不是标配)另有1英寸靶头可选

(2).一个直径50mm不锈钢样品台,样品台可旋转,旋转速率0-5 RPM

(3).安装有一可手动操作的溅射挡板

(4).样品台和靶头之间的距离可以调节,调节范围:30-80mm

(5).靶头支架,可以在非溅射状态放置溅射靶头

(6).溅射面积:4英寸(max)

7、控制面板

6" PLC集成触摸屏控制面板,可控制真空、电流、靶材位置和基片加热温度

8、真空系统

(1)安装有KF25真空接口

(2)数字真空压力表(Pa)

    (3)此系统运行需要Ar气,并且气瓶上安装有减压阀(设备中不包含)

(4)采用机械泵 <1.0E-2 Torr

(5)采用涡旋分子泵 <1.0E-5 Torr

(6)可在本公司选购各种真空泵

9、进气

含一个控制进气的针阀和一个放气阀,本设备接气需要安装减压阀

10、靶材

(1)靶材尺寸要求:Φ50mmx(0.1-2.5) mm(厚度)

(2)适合溅射Au,Ag,Cu,Al,Ti,等金属(可在我公司选购)

产品规格

1、产品外型尺寸:(L)460 mm × (W)330 mm × (H)520 mm

2、净重:20 kg(不包含泵及水冷机)

可选配件

薄膜测厚仪

加热样品台

浮子流量计

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