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半导体领域未来的水处理方向
阅读：641 发布时间：2024/1/12
在半导体领域，超纯水是制造过程中重要的原材料，其电导率、微粒含量、TOC、DO等各项水质指标都必须严格控制。超纯水的生产过程中，微粒子、电导率和TOC等任何一个指标稍有差异，都可能导致半导体元件生产的合格率下降。因此，对超纯水处理技术的持续改进和提升，是半导体制造领域的重要研究方向。
随着半导体集成度的提高和线宽的缩小，对水质的要求也更为严格，未来超纯TOC降解技术的发展方向将主要集中在以下几个方面。
1.更高效降解技术：随着半导体技术的不断进步，对超纯水中有机物的限制更加严格。在许多高科技和实验室设备中，总有机碳(TOC)会阻碍高纯水的生产。因此，需要开发更高效、快速的降解技术，以满足不断增长的需求；
2.绿色环保技术：采用环境友好型技术和材料，减少对环境的负担和影响；
3.智能控制技术：利用先进的传感器、控制器和人工智能技术，实现超纯水TOC降解过程的智能控制和优化管理；
4.多技术联合应用：将不同技术的优点结合在一起，形成多技术联合应用方案，以提高降解效率和可靠性。
安力斯-微电子超纯水TOC降解系统
其中，对超纯水TOC(总有机碳)的降解是关键环节之一。安力斯EX-UPW-TOC系列产品是一款适用于超纯水 (UPW) 制备中对总有机碳 (TOC) 进行降解的可靠系统。通过更高185nm输出强度、实时在线的紫外线强度监测、本地/远程的智能控制系统，实现严格、高效的总有机碳 (TOC) 降解。该设备在超纯水制备工艺中，可使超纯水TOC降至1ppb以下。
可以期待，高效、智能且环保的TOC降解系统技术将成为未来半导体领域的水处理重要的发展方向，不断探索新的技术和方法，以满足不断增长的需求和提高水质指标，未来将极大地推动半导体制造技术的发展。