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半导体用高浓度臭氧水与药液的效果比较

阅读:242发布时间:2023-4-27

半导体用高浓度臭氧水与药液的效果比较
使用臭氧水 使用药液
①仅次于氟素的强氧化能力
 去除金属,有机物强力有效
①使用盐酸,硫酸,双氧水等具有强酸性的药液,并且药液具有100℃左右的高温,操作时要十分注意。
②臭氧水处理后形成氧化膜,(0.8nm左右)→晶片表面具有亲水性     →晶片表面粒子数少②将氨气/双氧水与上述①强酸一起使用的情况较多(为了除去粒子)
③臭氧成分通过自然蒸发,或者通过使用简易臭氧分解设备, 从而使工厂排水变为可能。
→臭氧水易蒸发,立刻变成纯水
→可以使用工厂废水管道排放臭氧水
→纯水可循环利用
③药液使用后,使用工厂的废液处理设备中和处理。
→ 药液不可循环使用
④消耗材料价格低
  →基本上只需支付氧气费用和电费
④药液成本高。(以使用浴槽式设备清洗为例计算)
◯半导体(清洗)
◯FPD,液晶(清洗)
◯MEMS,传感器(清洁)
◯硬盘(清洗)
◯太阳能电池(清洁)
◯医疗(洗手,纯净水管道清洗)
◯食品(洗手,消毒,除臭)
半导体用高浓度臭氧水装置
半导体用高浓度臭氧水装置



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