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武汉赛斯特精密仪器有限公司
主营产品： 电量记录分析仪器,海缆张力弯曲卧式拉力试验机 |
公司信息
红外后对准双面刻机 刻蚀机
| 参考价 | 面议 |
具体成交价以合同协议为准
- 型号
- 品牌 其他品牌
- 厂商性质 生产商
- 所在地 武汉市
更新时间：2022-10-18 09:51:37浏览次数：285
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红外后对准双面刻机
SPTS作为*的深硅刻蚀和牺牲层刻蚀设备的供应商，SPTS能够提供一系列的解决方案来满足客户的生产和开发要求。通过一系列的技术的开发，SPTS能为客户提供一系列的*的工艺，比如功率MOSFET和200mm和300mm晶圆上的端封装（3D封装和芯片级封装）。
深硅刻蚀工艺的主要过程包括：
1） 钝化处理过程（C4F8等离子体）
一阶段：由C4F8产生CFn聚合物沉淀在所有的表面
2） 刻蚀过程（SF6等离子体）
第二阶段：由于离子体的定向运动，基面上的聚合物被去除的速度要比在侧壁的去除速度快。
第三阶段：暴露的硅表面就会被F系物刻蚀掉，SF6*提供等离子体，来实现高深宽比的刻蚀。
红外后对准双面刻机
深硅刻蚀的主要应用包括: MEMS，*封装（TSV）,功率器件等等。
SPTS提供一系列的设备来满足客户研发到生产不同的要求。包括ICP-SR/SRE系列，而Pegasus则是大量生产所使用的设备。
Pegasus是行业先的深槽刻蚀设备，可以提供理想的刻蚀速度，但同时保证侧面特征良好控制和一致性。通过利软件“boost and delay”和利 “parameter ramping” 以及绝缘硅技术实现了高性能的工艺控制。
parameter ramping技术：
实时调节工艺过程参数，以达到理想的侧面轮廓。
