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北京泰科瑞迪工业设备有限公司
主营产品： 电机，泵，传感器，风机，滤芯，检测仪器，仪器仪表，备品备件等 |
联系电话
18630377846
公司信息
| 参考价 | ￥ 6000 |
| 订货量 | 1 件 |
- 型号 MicroLine-300
- 品牌
- 厂商性质 经销商
- 所在地 秦皇岛市
更新时间：2020-06-02 13:04:42浏览次数：249
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维修美国MicroLine高精密光学影像测量仪
MicroLine-300是一款桌上型半自动CD测量系统。
主要技术参数：
◆ 测量范围(XYZ)：标准：200×200×25mm；可选：300x300x25
◆ 视场内测量精度：10nm(100X 镜头)；Z轴聚焦范围：25 mm
◆ 视场内测量范围：0.5um~400um；
◆ 视场内测量重复性(100x 物镜)： 晶圆上<0.010um(1δ)；
掩模板上0.005um(1δ)；
◆ 承重：2kg
◆ 标配镜头10x，可选镜头：5X, 20X, 50X, 100X
维修美国MicroLine高精密光学影像测量仪
MicroLine 300 is a table type semi-automatic CD measurement system .
The main technical parameters :
◆ X,Y,Z Measuring Range (mm): standard :200x200x25 optional : 300X300x25
◆ The field measurement accuracy ：10nm （100X lens ） Z Foucsing Range (mm) : 25
◆ The field measurement range ：0.5um~400um；
◆ The field measurement repeatability （100X lens）：on wafer < 0 0.010m(1δ)；
on mask plate 0.005um(1δ)；
◆ Max Recommanded Load : 2kg
◆ Lens ： standard ：10X
optional ：5X，20X，50X，100X。
维修美国MicroLine高精密光学影像测量仪
MicroLine 系列 主要用于测量半导体、MEMS 晶圆、光刻掩模板等尺寸和涂覆物(多层套刻、圆、对接误差等)量测。
MicroLine 临界尺寸测量系统设计应用于半导体和MEMS晶圆以及光掩模CD量测。Microline 系列可自动测量线宽，迭置重合，和其他关键尺寸。
MicroLine 装备有高性能光学显微镜，高精度运动平台，可测量0.5 微米到400 微米大小的产品，测量精度和重复性在10nm （1 σ ，100倍物镜）。
维修美国MicroLine高精密光学影像测量仪
MicroLine 系列 主要用于测量半导体、MEMS 晶圆、光刻掩模板等尺寸和涂覆物(多层套刻、圆、对接误差等)量测。
MicroLine 临界尺寸测量系统设计应用于半导体和MEMS晶圆以及光掩模CD量测。Microline 系列可自动测量线宽，迭置重合，和其他关键尺寸。
MicroLine 装备有高性能光学显微镜，高精度运动平台，可测量0.5 微米到400 微米大小的产品，测量精度和重复性在10nm （1 σ ，100倍物镜）。
