高真空CVD化学气相沉积系统

产品介绍：

该款CVD系统, 采用双温区加热形式，加热元件采用硅钼棒（1700℃以下使用）。

CVD管式炉由供气系统、加热系统、真空系统等组成；

1）加热系统可以分单温区、双温区、三温区、多温区等；

2）真空系统可分为低真空和高真空，极限真空可以达到10-4Pa（分子泵组）；

3）供气系统是流量调节用户可选质量流量计或浮子流量计，混气路数用户可选2路、3路、4路、5路、6路等相混合（主要根据客户工艺要求定制）

产品用途：

应用于高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。

产品功能及特点：

1、 炉膛采用*真空吸附成型的高纯氧化铝多晶纤维制成，保温效果好，耐用节能，反射率高、温场均衡，等特点；

2、加热元件采用高温硅钼棒，发热温度可达1700℃；

3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的安全性和连续均匀性。

4、炉管采用高纯刚玉管对采用不会产生污染。

5、采用KF快速法兰密封，仅需要一个卡箍就能完成法兰的连接，放、取物料方便快捷，避免了螺栓密封人为操作导致漏气的可能；减少了因安装法兰而造成加热管损坏的可能。

6、预留了真空、气路快速接口，可配合我司真空系统、混气系统使用；

7、我司可预留485转换接口，可通过我部的软件，与计算机互联，可实现单台或者多台电炉的远程控制、实时追踪、历史记录、输出报表等功能；可安装无纸记录装置，实现数据的存储、输出；

8、加热采用上盖开启式，超温和断偶保护警报并断电，漏电保护，操作安全可靠。