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等离子清洗机光刻胶去除,等离子处理设备

2021-3-23  阅读(1497)

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等离子体清洗机去除晶圆表面光刻胶

等离子体清洗机在处理晶圆表面光刻胶时,等离子表面清洗能够去除表面光刻胶和其余有机物,也可以通过等离子活化和粗化作用,对晶圆表面进行处理,能有效提高其表面浸润性。相比于传统的湿式化学方法,等离子体清洗机干式处理的可控性更强,一致性更好,并且对基体没有损害。

等离子清洗机表面处理机应用包括处理、灰化、改性、蚀刻等过程。选择等离子清洗设备,不仅能*除去光刻胶和其他有机物,而且能激活晶圆表面,提高晶圆表面的润湿性。聚合物、包括形状不一的槽孔和狭长的孔洞内的微粒,使用等离子清洗机可以轻而易举清洗掉

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