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成都沃特塞恩电子技术有限公司
HMPS-2150S微波等离子体CVD设备 沃特塞恩旗下的和瑞微波事业部专业从事微波能、微波等离子体应用技术研发及MPCVD设备生产、具有多项自主知识产权……,我司生产的这款型号为HMPS-2150S微波等离子体CVD设备具有以下优势特点:. 微波反应腔新型设计,功率密度大。. 产品沉积速率快、沉积质量高、沉积面积超过3inch。. 开关型微波功率源,微波功率输出......
(1) | 型号 | HMPS-2150S |
(2) | 电源 | AC380±10% V 三相五线制 50Hz,额定输入<25KVA |
(3) | 微波输出功率 | 0.5~6kW 连续可调 |
(4) | 功率稳定度 | ≤±1%(@满功率) |
(5) | 纹波 | ≤1% |
(6) | 微波频率 | 2450MHz±50MHz |
(7) | 测温方式 | 红外300~1400℃,控制精度±5℃ |
(8) | 极限真空度 | 6×10-6torr |
(9) | 腔体内工作压力 | 7torr~250torr |
(10) | 自动气压控制 | 0.1torr |
(11) | 等离子放电区域 | Φ≥100mm |
(12) | 均匀沉积区域 | Φ≥80mm |
(13) | 工作气氛 | 五路(可用户定制) |
(14) | 微波泄漏值 | <5mW/cm2 |
(15) | 工作环境 | 温度15~40℃,相对湿度≤60%,无腐蚀性气体 |
(16) | 冷却水 | >46L/Min |
适合光学、电子、工具级金刚石膜或单晶、石墨烯等的沉积,材质表面处理、低温氧化物的生长等。
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