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鼎竑GU-SP2000全自动磁控离子溅射仪

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更新时间：2023-11-10 11:44:21浏览次数：97次

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产品简介

优点安全至上高压线多重防护；外壳良好接地；真空互锁;系统自动防护性切断溅射；实体按键，很安全

详细介绍

优点

安全至上
高压线多重防护；外壳良好接地；真空互锁; 系统
自动防护性切断溅射；实体按键，很安全。

注重用户体验
5英寸液晶屏，简洁明了;
可多设置两个参数，即可开始工作；
系统自动调整真空度，无需人工调节针阀;
自动放气；样品台高度可调节。

信息量大
溅射过程中真空度和溅射电流以曲线方式实时显示，简单直观；
靶材使用时间，仪器使用时间系统自动记录，直观了解设备的运行状态；

快速上手
设备内置操作向导，在操作人员更换时，无需培训，即可快速熟练操作设备；

应用领域广
溅射电流与压力无关、基本没有热损伤，因此适用于所有样品，尤其是温度敏感性样品如生物、聚合
物等样品；工作时真空度好，镀膜的颗粒度更小，更适用场发射等高分辨观测电极制备。

技术参数

输入电压：AC220V±10%，50Hz
工作电压：DC600V
上限功率：（主机与机械泵） 450W
可选靶材：金、铂、银、铜、钛、铅等常用金属
真空泵：两级直联旋片式真空泵 1L/s
真空腔：约φ125×125mm
样品杯：φ64×1
整机尺寸：（长×宽×高） 424×271×255（mm）
重量（主机）： 11 kg
工作环境：温度 5～40℃，湿度<60%
存储环境：温度-10~60℃，湿度<80%
工作气体：Air / Ar
保护功能：过流、真空双保护

关键词：真空泵旋片式真空泵