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离子束抛光真空系统
离子束抛光真空系统 | ||
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应用 | ||
应用:领域包括样片的离子抛光、减薄、清洗等 | ||
技术指标 | ||
*型号:IM150 *可兼容射频离子源RF50或RF150的真空系统(未烘烤下的真空度可达到10-8 mbar) *配备角度可调且可旋转的水冷样品架 *便捷的前门装载基片方式 **离子束抛光真空系统依客户应用要求可实现多元化配置组合 | ||
特点 | ||
*型号:IM150 *可兼容射频离子源RF50或RF150的真空系统(未烘烤下的真空度可达到10-8 mbar) *配备角度可调且可旋转的水冷样品架 *便捷的前门装载基片方式 *离子束抛光真空系统依客户应用要求可实现多元化配置组合 |
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