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君浩环保集团有限公司
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使用超纯水设备的好处集成电路超纯水设备工艺说明集成电路超纯水设备详细介绍产品特点：1.去除悬浮颗粒和沉淀2.除去溶解性离子3.去除气体4.防止膜堵塞
使用超纯水设备的好处
产品特点：
1.去除悬浮颗粒和沉淀 2.除去溶解性离子 3.去除气体 4.防止膜堵塞，保护RO膜 5.可降低能耗，节约资源
超滤系统：据原水水质、回收率及产水量等因素确定膜组件的组合方式
产品特点：
1.去除溶解性离子 2.去除微生物和病毒 3.提高水质 4.保障产水的稳定性 5.降低企业生产成本
产品特点：
EDI的作用就是通过除去电解质(包括弱电解质)的过程，将水的电阻率从0.05～1.0MΩ·cm提高到5～16MΩ·cm
产品特点：
无化学析出的核子级树脂，去除纯水中残余的微量带电离子及弱电解质，使水质达到18MΩ·cm以上
产品特点：
终端供水泵能够实现不降压设备切换，可选择恒压、恒流控制方式
集成电路使用超纯水设备可以用于清洗集成电路的制造设备和工艺中的各个环节，包括晶圆清洗、蚀刻、沉积等。它能够去除杂质、颗粒和化学物质，确保在制造过程中的高纯度和无污染
半导体行业对生产用水的要求非常严格，以下是一些常见的半导体行业生产用水标准：
1. 电阻率：通常要求超过18兆欧姆·厘米（MΩ·cm），有时甚至要求更高的值。
2. 离子含量：各种离子的含量都要限制在极低的浓度，例如阳离子和阴离子都要控制在纳克级别以下。
3. 颗粒物含量：通常要求颗粒物浓度小于1个每升。
4. 高纯水（HPW）：高纯水是指相对较高纯度但不同于超纯水的水质标准。常见的高纯水标准包括：
5. 电阻率：通常要求在2-10兆欧姆·厘米（MΩ·cm）范围内。
6. 离子含量：各种离子的含量也需要在较低的水平上进行控制，但比超纯水标准宽松一些。
7. 颗粒物含量：通常要求颗粒物浓度小于1个每升。
可根据客户需求定制，出水达行业用水标准
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