型号：OTF-1200X-50-DSL
产品概述：OTF-1200X-50-DSL是一款水平滑轨炉，其炉管直径为Φ50mm,炉体滑动速度可以根据实验需要而设置（1mm/sec-100mm/s),并可以设置左右反复滑动，同时还可以设置炉体的滑动距离。此款管式炉专门设计用CVD方法定向生长单壁碳纳米管（SWCNTs）。通时此款滑轨炉也可用来在硅片上生长熔点较低的金属单晶。此系统包含了可设30段程序的高温炉、一根Φ50*1000mm的石英管和一套不锈钢真空法兰
| 炉体结构 | · 采用双层壳体结构，并带有风冷系统 · 一个滑轨安装在炉体下端，可通过一6“的触摸屏来控制炉体移动方向、滑动速度和往返次数 · 采用高纯氧化铝纤维作为炉膛材料，并且表面涂有美国进口高温氧化铝涂层，可提高加热效率和延长使用寿命。 |
| 功率 | 1.5KW |
| 电压 | AC220V，单相 |
| 共工作温度 | 1200℃（≤1小时） |
| 连续工作温度 | 1100℃ |
| 加热区域 | · 加热区：200mm(单温区） · 通过管堵位置和炉体移动可形成想得到的温度梯度
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| 加热元件 | 掺钼铁铬铝（表面涂有高温氧化锆涂层，可延长其使用寿命） |
| 炉管 | · 高纯石英管 · 尺寸：50 mm OD x 46mm ID x 1000 mm L · 仪器加热前，必须放入管堵，以防止热量辐射影响法兰的密封性 |
| 温控系统 | · 采用PID方式调节温度，可设置30段升温、降温和保温程序 · 设置有温度过高和断偶保护系统 · 控温精度：±1℃ · 可选测PC控制软件，将升温程序和温度曲线导入到电脑中 · 控温仪表操作视频
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| 炉体滑动控制系统 | · 触摸屏控制 · 炉体移动有手动和自动控制两种控制状态，在手动状态和自动状态下均可设定左右移动的速度，但只有在自动状态下才能设定左右移动的次数。 · 含蜂鸣报警器，当炉体触碰到限位开关就会产生报警，并切断控制电路，使炉体停止移动。 · 可显示高温炉内的炉温，与之通讯 |
| 密封法兰 | · 仪器中配有一套不锈钢密封法兰（上面已安装不锈钢针阀和机械压力表） · 法兰上有一Φ6.35的铠装孔，可将热电偶插入到炉管中，更准确地测量样品的实际温度 |
| 石英气体喷嘴 | 可选配石英气体喷嘴，将反应气体与缓冲清洗气体分开通入，可有效减少副反应发生，实现CVD工艺，如局部控制前体浓度化学气相沉积工艺（ALC CVD）或单晶二维材料薄膜的生长工艺等。 |
| 真空度 | · 10E-5 torr （用分子泵） · 10E-2 torr （用直联式机械泵） |
| 滑轨长度 | 1200mm |
| 操作视频 | 操作视频 |
| 产品尺寸 | · 315 x 300 x 380 mm (炉体) · 1200 x 400 x 530 mm ( 整个外形) · 360 x 180 x 300 mm（电器控制柜） |
| 重量 | 100KG |
| 质保期 | 一年质保期，终生维护（不包括炉管、硅胶密封圈和加热元件损耗件） |
| 质量认证 |
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