硅材料清洗用超纯水设备工艺
　　所谓的硅材料，一般包括单晶硅、多晶硅、太阳能硅片电池以及半导体生产用的硅材料，这些产品中含有微量的污染就会导致元器件失效。清洗的杂质主要包括包括有机物和无机物。无论是那种杂质都会导致各种缺陷，因此，对于硅材料清洗用超纯水设备工艺。
　　超纯水处理设备指采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎*去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备，用于制取超纯水的机器，超纯水最初是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，这种水中除了水分子(H20)外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，超纯水无硬度，口感较甜，又常称为去离子水，可直接饮用，也可煮沸饮用。

　　1、水源的影响
　　由于水是一种溶解能力很强的溶剂，因此天然水中含有各种盐类和化合物,溶有CO2，还有胶体(包括硅胶和腐殖质胶体)，天然水中还存在大量的非溶解性质，包括粘土、砂石、细菌、微生物、藻类、浮游生物、热源等。
　　2、材料的影响
　　制备超纯水的材料设备的材质都是用金属和塑料制成的，金属在水中会有痕量溶解，造成金属离子污染。一些高分子材料，在合成时常常加入各种添加剂、增塑剂、紫外吸光剂、着色剂，也引入大量的金属、非金属杂质，同时还会带来有机污染。
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