电子、半导体、液晶显示、光伏工业生产在制作过程中，往往需要使用极其纯净的超纯水。在光伏行业电子管生产中，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命，在显像管和阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，如其配制纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色；含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪动并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。因此水的质量相当重要。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。  

 EDI超纯水设备作为制取超纯水的设备，作为反渗透设备后的二次除盐设备，可以制取出高达10-18.2MΩ.CM。因此广泛用于微电子工业，半导体工业，发电工业，制药行业和实验室。也可以作为制药蒸馏水、食物和饮料生产用水、发电厂的锅炉的补给水，以及其它应用超纯水。

  EDI超纯水设备将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元,EDI组件中将一定数量的EDI单元间用网状物隔开，形成浓水室,又在单元组两端设置阴/阳电极,在直流电的推动下，通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除,而通过浓水室的水将离子带出系统。

  EDI超纯水设备技术介绍：EDI电去离子设备一般以反渗透（RO）纯水作为EDI给水。RO纯水电导率一般是40-2μS/cm（25℃)。EDI纯水电阻率可以高达18MΩ.cm(25℃)，但是根据去离子水用途和系统工艺、配置不同，EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超纯水。