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使用等离子的表面处理装置。着重于"使用简单"的台式高性能型号，调取数据简单，以电子材料为中心，可对应多种用途。
特征
● 可变更电极构造提高等离子效果。
● 搭载高精度适配器，高性能RF 电源。
● 可根据需求规格提供定制。
用途
● 硅晶圆的灰化及蚀刻
● 基板表面污垢处理
● IC/LED封装、BGA/CSP基板处理
● 半导体相关部品的电子材料的干式清洗
● 自然氧化膜·有机物去除
● 界面活性处理
● 表面污染物去除
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