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液晶屏清洗用超纯水设备

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更新时间:2022-12-14 16:10:48浏览次数:191次

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产品简介

液晶屏清洗用超纯水设备

详细介绍

  多年来,我国的许多企业的产品的质量,在得到了严格的过程管理的情况下,仍然不稳定,与国外产品有着很大的差距,这很有可能就是生产用水的问题。如果使用去离子水,那么情况将会被大为改善,是我国很多行业提高产品质量的,赶超水平的重要手段之一。这一点,我们在实践中,在诸如化工、生物、喷涂、表面处理、制药、食品、电子等行业都得到了很好的验证。

  

  一 、去离子水、超纯水、高纯水、深度净化水:水中通常含有五种杂质:

  A、电解质包括带电粒子,常见的阳离子有 H+.Na+.K+.NH4+.Mg2+.Ca2+.Fe3+

  .Cu2+.Mn2+.Al3+等;阴离子有F-.Cl-.NO3-.HCO3-.SO42-.PO43-.H2PO4-.HSiO3-

  B、有机物质,如:有机酸、农药、烃类、醇类和酯类等;C、颗粒物;D、微生物;

  E、溶解气体,包括:N2 、O2 、Cl2 、H2S 、CO 、CO2 、CH4 等;

  所谓去离子水、超纯水、高纯水、深度净化水,就是要去掉这些杂质。杂质去的越,水质也就越纯净。

  二 、去离子水、超纯水、高纯水、深度净化水生产工艺:

  1.阳床+阴床(水质可以做到0.2MΩ.cm以上即5 μ s/ ㎝以下,25 ℃)

  2.阳床+阴床+混床(水质可以做到10MΩ.cm以上即0.1 μ s/ ㎝以下,25 ℃)

  3.阳床+阴床+混床+抛光混床(水质可做到18MΩ.cm即0.055 μ s/ ㎝,25 ℃)

  4.RO反渗透(水质可以做到0.2MΩ.cm以上即5 μ s/ ㎝以下,25 ℃)

  5.RO反渗透+混床(水质可以做到10MΩ.cm以上即0.1 μ s/ ㎝以下,25 ℃)

  6.RO反渗透+混床+抛光混床(水质可以做到18MΩ.cm即0.5 μ s/ ㎝,25 ℃)

  7.RO反渗透+EDI(水质可以做到15MΩ.cm以上即0.066 μ s/ ㎝以下,25 ℃)

  8.RO反渗透+EDI+抛光混床(水质可以做到18MΩ.cm即0.05 μ s/ ㎝,25 ℃)

  9.二级RO+EDI(水质可做到17MΩ.cm以上即0.058μ s/ ㎝以下,25 ℃)

  10..二级RO+EDI+抛光混床(水质18MΩ.cm即0.055μ s/ ㎝,25 ℃,水质稳定)

  1. EDI设备/EDI超纯水/EDI去离子水/EDI高纯水设备的技术特点

  电去离子(EDI)技术是一种将电渗析和离子交换有机结合在一起的脱盐新工艺,英文名称electrodeionization,缩写EDI,该工艺过程取电渗析和离子交换两者之长,弥补对方之短,即利用离子交换深度脱盐来克服电渗析极化而脱盐不,又利用电渗析极化而发生水电离产生H+和OH-实现树脂自再生来克服树脂失效后通过化学药剂再生的缺陷。因而EDI技术是一种的除盐工艺。

  2. EDI设备/EDI超纯水/EDI去离子水/EDI高纯水设备技术的*性

  *不需化学再生药剂,生产过程无任何污染,属清洁生产;

  *不需停机再生,连续生产水质稳定的高纯水(15~18MΩ·cm);

  *运行稳定可靠,维护简单、运行费用低;

  *占地面积小,节约场地建设费用。

  3. EDI设备/EDI超纯水/EDI去离子水/EDI高纯水设备的主要作用和适用范围

  EDI的作用是精除盐。在使用RO渗透水脱除97~99%离子的前提下,EDI可直接将反渗透产水提纯到纯水、高纯水、超纯水的标准,而无需使用离子交换混床,其产水的电阻率可达18MΩ·cm。

  EDI设备在对水质要求较高的行业中具有广泛的应用市场。在电子工业、科研实验室、检验分析行业常用EDI制取18MΩ·cm以上的超纯水,在精细化工、发电、电镀行业常用EDI制取15MΩ·cm以上的高纯水,在医院和制药行业常用EDI制取5MΩ·cm以上的纯化水,在食品饮料行业应用EDI制取0.5MΩ·cm以上的初纯水等。

  4. EDI设备/EDI超纯水/EDI去离子水/EDI高纯水设备的工作原理

  EDI电去离子膜堆同时进行以下三个主要过程:

  1)在纯水室中, 阴、阳混合离子交换树脂上的OH- 和H+离子对水中电解质离子的离子交换过程;

  2)在外电场作用下,纯水室水中电解质离子通过离子交换膜被迁移到浓水室的电渗析过程;

  3)电渗析的极化及交换树脂本身的水解作用所产生的H+和OH-对交换树脂的再生过程。这三个过程同时发生,相互促进,从而实现了EDI连续不断地生产高电阻率的超纯水的目标。

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