污水处理设备 污泥处理设备 水处理过滤器 软化水设备/除盐设备 纯净水设备 消毒设备|加药设备 供水/储水/集水/排水/辅助 水处理膜 过滤器滤芯 水处理滤料 水处理剂 水处理填料 其它水处理设备
北京英格海德分析技术有限公司
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A system for the analysis of secondary positive and negative ions from solid samples.
·Hiden在被动射频补偿方面处于地位，在所有的商业化探针中 ESPion具有的屏蔽阻抗(4.25Mohm at 13.56 MHz cf. 100kohm)
· 参考探针补偿用于抵制较低频率影响，例如等离子体电位漂移(如，反应室内腔阳极氧化所致) 或噪音(如，供电源引起)
· 高温等离子体操作时的气体制冷多感应器链，使用者可调谐至其他频率
·获得数据速度： 15scans/s，
·通过D-O-E-界面可以自动/半自动/手动分析
·300、600、915mm 自动线性驱动器可选，互锁隔离阀，
·90°探针，组合式线性－旋转驱动器可选
·ESPion 是所有商业化探针中速的脉冲等离子体探针，
·ESPsoft 包括所有必需的标准脉冲选通电路
·自清洗循环，防止探针污染
· 经由RS232、RS485、Ethernet LAN 和 ESPsoft软件控制
Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)
AP0067 - O- Density Measurements in the Pulsed-DC Reactive Magnetron Sputtering of Titanium (215 KB)
AP0121 - Hiden ESPion Plasma Probe Measurements on a Hollow-Cathode Based Large-Volume Plasma Source (277 KB)
AP0142 - Ion Density Increase in High Power Twin-cathode Magnetron System (247 KB)
Energy/Mass Spectrometer Analyser and Langmuir Probe Diagnostics for HIPIMS (1.88 MB)
Mass Spectrometry in HiPIMS Plasmas - COST Workshop 2012 (3.2 MB)
Plasma Diagnostics in High Power Impulse Magnetron Sputtering Discharges - TIRI JSFS 2012 Tokyo YAG (3.52 MB)
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