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硅(Si)靶材硅靶材简介:简单的说,靶材是高速荷能粒子轰击的目标材料
硅(Si)靶材
硅靶材简介:
简单的说,靶材是高速荷能粒子轰击的目标材料。有金属类、合金类、氧化物类等等。例如:蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜...铝膜等。更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。金属材料溅射靶材是目前应用的靶材。本公司提供的金属靶材是通过简单熔炼成形、磁悬浮熔炼、热等静压成型、冷等静压成型等不同工艺制备而成。产品纯度好,密度高,晶粒均匀细致,使用寿命长。
硅靶材参数:
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