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开启式单温区低真空CVD系统OTF-1200X-F3LV

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更新时间：2023-06-30 21:22:52浏览次数：73次

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沈阳科晶自动化设备有限公司

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产品简介

开启式单温区低真空CVD系统OTF-1200X-F3LV

详细介绍

产品简介：开启式单温区低真空CVD系统OTF-1200X-F3LV是由开启式单温区管式炉、机械泵、三通道浮子混气系统组成，可为CVD或扩散实验提供1-3种的混合气体，真空度可达10^-2torr。

产品型号	开启式单温区低真空CVD系统OTF-1200X-F3LV
安装条件	本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：不需要 2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地 3、气：设备腔室内需充注气体，需自备气瓶气源 4、工作台：尺寸600mm×600mm×700mm，承重150kg以上 5、通风装置：需要
主要特点	1、双层壳体，配有循环风冷系统，壳体温度<60℃。 2、内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层，可以提高加热效率，同时延长使用寿命。 3、采用PID控制器，可以设置30段升降温程序。 4、设有超温及断偶报警功能。 5、已通过CE认证。
技术参数	1、电源：AC 220V 50/60Hz 2.5KW 2、石英管：外径Ø80mm，内径Ø75mm，长1000mm 3、加热元件：掺钼铁铬铝合金电阻丝 4、加热区域：440mm 5、恒温区域：150mm 6、工作温度：1200℃，连续工作1100℃ 7、升降温速率：20℃/min 8、控温精度：±1℃ 9、真空度：5.5×10^-3torr（机械泵），10^-4torr（分子泵） 10、泄漏率：<5mtorr/min 11、浮子流量计：3个；10ml/min-100ml/min，16ml/min-160ml/min，25ml/min-250ml/min 12、压力表：4个
产品规格	尺寸：管式炉550mm×380mm×520mm，混气系统600mm×600mm×597mm；重量：60kg