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原位薄膜应力仪

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更新时间:2022-11-04 16:01:17浏览次数:355次

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产品简介

原位薄膜应力仪

详细介绍

产品介绍: 详细说明:

原位薄膜应力测量系统(kSA MOS Film Stress Measurement System):系统采用非接触MOS激光阵列技术;不但可以对薄膜的应力、表面曲率和翘曲进行实时原位测量,而且还可二维应力Mapping 成像统计分析,同时可精确测量应力、曲率随温度变化的关系。


典型用户:Harvard University 2套,Stanford University,Johns Hopkins University,Brown University 2套,Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute,西安交通大学,中国计量等、半导体和微电子制造商(如IBM.,Seagate Research Center,Phillips Semiconductor,NEC,Nissan ARC,Nichia Glass Corporation)等; 


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薄膜应力仪(kSA MOS 薄膜应力测量仪):为独立测量系统,同样采用多光束MOS技术,详细信息请与我们联系。

 

设备名称:
原位薄膜应力测量系统,原位薄膜应力测试仪,原位薄膜应力计,薄膜应力仪,kSA MOS Film Stress Tester, kSA MOS Film Stress Measurement System;

 

主要特点:
   1.MOS 多光束传感器技术;
   2.单Port(样品正上方)和双Port(对称窗口)系统设计;
   3.适合MOCVD, MBE, Sputter,PLD、蒸収系统等各种真空薄膜沉积系统以及热处理设备等;
   4.薄膜应力各向异性测试和分析功能;
   5.生长速率和薄膜厚度测量;(选件)
   6.光学常数n&k 测量;(选件)
   7.多基片测量功能;(选件)
   8.基片旋转追踪测量功能;(选件)
   9.实时光学反馈控制技术,系统安装时可设置多个测试点;
   10.专业设计免除了测量丌受真空系统振动影响;

 

测试功能:
         1. 实时原位薄膜应力测量
   2.实时原位薄膜曲率测量
   3.实时原位应力*薄膜厚度曲线测量
   4.实时原位薄膜生长全过程应力监控等

 

实际应用:

 

 

 

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