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上海昊量光电设备有限公司
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滑动式二硫化钼CVD制备设备一、滑动式二硫化钼CVD制备设备概述硫粉预热器采用管内测控温以保证在250℃以下，稳定控制硫蒸汽的蒸发时机和蒸发温度
滑动式二硫化钼CVD制备设备
一、 滑动式二硫化钼CVD制备设备概述
硫粉预热器采用管内测控温以保证在250℃以下，稳定控制硫蒸汽的蒸发时机和蒸发温度。真空机组装有真空粉尘过滤器以保护机械式真空泵不被硫粉尘损坏。采用耐腐蚀电阻电容复合真空计（在1000Pa以上测量不受气体种类影响，耐硫蒸气腐蚀），通过调节真空蝶阀的开启程度调节炉管内压力稳定，在1200℃以下的工艺温度稳定气相沉积二硫化钼等二维化合物材料。
二、 滑动式二硫化钼CVD制备设备设备组成
HCVD-1200S双温区管式炉，HTF400C硫粉预热器(双温区管式炉与预热器可滑动)，质量流量计供气系统，机械式真空泵等组成。
三、 滑动式二硫化钼CVD制备设备主要技术参数
硫粉预热器
型号：HTF-400C
工作温度：350℃
MAX温度：400℃
MAX升温速率：30℃/min
推荐升温速率：10℃/min
控温方式：智能化30段可编程控制
工作电压：AC220 V额定功率：800W
控温精度：±1℃
加热元件：电阻丝
双温区硫化炉
型号：HCVD-1200S
技术参数：额定功率(KW):3
额定电压(V):AC220v 50/60 Hz
MAX温度(℃):1200（1 hour）
持续工作温度(℃）：1100
升温速率（℃/min）：≤50
炉管尺寸（mm）：高纯石英管Φ50×1500mm
加热区长度（mm）：440mm
恒温区长度（mm）:200mm
控温方式:模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能
控温精度(℃):±1
加热元件:电阻丝
供气系统GMF3Z
质量流量计重量：35Kg
外形尺寸：600x600x650mm
连接头类型：双卡套不锈钢接头
标准量程（N2标定)：50sccm、200sccm、500sccm； （可根据用户要求定制）
准确度：±1.5%线性：±0.5～1.5%重复精度：±0.2%
响应时间：气特性：1～4 Sec，电特性：10 Sec
工作压差范围：0.1～0.5 MPa MAX压力：3MPa
接口：Φ6,1/4''
显示：4位数字显示
工作环境温度:5~45℃
内外双抛不锈钢管：Φ6
压力真空表：－0.1～0.15 MPa, 0.01 MPa/格
截止阀：Φ6
低真空机组VAU-02
技术参数：
空气相对湿度≤85%
工作电电压：220V±10% 50~60HZ
功率：1千瓦
抽气速率：4L/s
极限真空：4X10-2Pa
实验真空度：1.0X10-1Pa
容油量：1.1L
进气口口径：KF25
排气口口径：KF25
转速：1450rpm
噪音：50dB
外型尺寸:450×180×240mm
配真空粉尘过滤器，DN25手动蝶阀用于控制炉管内压力，INFICON PCG554复合真空计
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