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苏州道盛禾环保科技有限公司
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超净化和超纯水乃至超超纯水的概念是随着半导体产业的发展出来的。现有的纯水的概念基本上是在水溶液中的电解质为对象
超净化和超纯水乃至超超纯水的概念是随着半导体产业的发展出来的。现有的纯水的概念基本上是在水溶液中的电解质为对象。因此,电传导性检测中心。,除此以外的水中不溶解分散的有机物,生菌,微粒其他对象。半导体产业中被要求超纯的水时,其最终目标是设想的100 %理论纯水。但是,这种纯水只是来自纯理论的东西,实际上是不可能实现，这是理论制造纯水本身就有困难,即使能制造出，生产设备的附着物和材料的溶出等产生的污染,使纯水不能保持纯度，因此,现实中能够得到纯水的水平是的纯水理论无限接近超纯水乃至超超纯水。主要使用并在半导体、液晶等电子零件的清洗水",功能性化学品(半导体制造用药品稀释水等)也被使用。
半导体超纯水设备是应用于半导体生产零件清洗的超纯水设备，需要符合特定的用水水质标准，下面具体介绍下半导体超纯水设备。
半导体超纯水设备水质标准：
半导体超纯水设备出水水质要符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。
半导体超纯水设备制备工艺：
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(传统工艺，优点：水质好，技术成熟，缺点：需要酸碱再生，需要废水处理设备)
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→UF→用水点(≥18MΩ.CM)(膜工艺,优点：设备操作简单、维护方便，不需要再生用药剂，缺点：对于大水量系统，成本、空间没有优势)
3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥17MΩ.CM)(案例类型)
4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)(案例类型)
5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点 (≥15MΩ.CM)(传统工艺)
半导体超纯水设备的应用领域：
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。
电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水。
黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。
生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液。
晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片。
集成电路生产中高纯水清洗硅片。
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水。
半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗。
高品质显像管、萤光粉生产。
汽车、家电表面抛光处理。
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