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HMDS烤箱，HMDS真空烘箱的由来
半导体工艺中需要在各种衬底上进行光刻胶涂布，黏附性是否良好是最大的问题。黏附差导致严重的侧面腐蚀，线条变宽，甚至有可能导致图形全部消失，湿法刻蚀技术要求光刻胶与下面的衬底有很好的黏附性。
提高光刻胶与衬底之间的黏附力有多个步骤：
a、涂胶前进行脱水坚膜;
b、使用黏附促进剂，即HMDS(六甲基二硅烷)增粘剂气相涂布;
c、高温后烘。
完成以上工艺仅用我司生产的HMDS真空烘箱即可。
HMDS烤箱，HMDS真空烘箱
温度范围：RT+10-250℃
真空度：≤133pa（1torr）
控制仪表：人机界面，一键运行
储液瓶：HMDS储液量1000ml
真空泵：无油涡旋真空泵
HMDS真空烘箱也称为智能型HMDS真空系统 将HMDS气相沉积至半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。
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