HMDS真空烘箱，HMDS处理系统的药液泄漏处理方法

HMDS真空烘箱，HMDS处理系统中HMDS泄漏处理方法

1.在污染区尚未*清理干净前，限制人员接近该区。
2.确定清理工作是由受过训练的人员负责。
3.穿戴适当的个人防护装备.
4.对该区域进行通风换气。
环境注意事项：抽气通风，移走撤离关闭所有可能之热源、火星、火花与火焰等之引火源与点火装置，若大量泄漏时先将泄漏区围堵避免扩散。
HMDS清理方法：
少量泄漏时：以惰性吸收/吸附材料吸取泄漏物。
大量泄漏时：将泄漏区域围堵，小心地道引将泄漏物抽取回收集桶。

隽思HMDS真空烘箱，HMDS处理系统主要用途：

  在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

HMDS真空烘箱，HMDS处理系统技术参数：

电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2%

输入功率：2200W

温度范围：RT+10℃-250℃

温度分辨率：0.1℃

温度波动度：±1℃

达到真空度：133Pa（1torr）

工作室尺寸（mm）：450*450*450,550*550*350（可定做）

隽思HMDS真空烘箱，上海隽思HMDS处理系统特点：

1、预处理性能更好

2、处理更加均匀

3、效率高

4、更加节省药液

5、更加环保和安全   

6、高安全保护性能

a.低液报警装置 

b.可自动吸取HMDS功能， 

c.可自动添加HMDS功能， 

d.HMDS药液泄漏报警功能，

HMDS安全处置与储存方法：
处置：HMDS易产生静电，搬运时将所有设备与容器适当接地，并须固定牢固，避免吸入蒸气及接触眼睛与皮肤。
存储：置于阴凉、干燥、通风处、紧盖容器，远离各种可能之热源、火星、火花与火焰等之引火源与点火装置，避免吸入蒸气及接触眼睛与皮肤。