六箱体氮气烘箱，多仓式洁净烘箱选配功能：辅助降温：水冷、风冷降温操作界面：人机界面+PLC,工控电脑录入信息：扫码枪监测功能：氧含量分析仪等

精密高温热板，掩膜版加热台采用高性能电热管加热，升温快，热效率高，使用寿命更长，维护简单；

洁净无氧烘箱，氮气无氧 烘箱用于触摸屏、晶圆、LED、PCB板、ITO玻璃等精密电子、太阳能、新材料等行业.半导体晶片、半导体封装和MEMS器件的批量生产。主要...

后曝光氮气烘箱，PEB无尘烘箱所使用的高温（100-130°C）会使光敏化合物扩散，从而消除驻波波纹.百级洁净度无尘化，专用于半导体，集成电路。

聚酰亚胺PI无氧烘箱，氮气亚胺化烘箱应用于精密电子元件、PI、CPI/PBO/LCP/BCB胶高温固化烘烤、银胶固化、光刻胶固化、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺...

氮气烘箱，掩膜板烘箱在掩膜版的生产制造过程中，掩膜版基板在光阻涂布后会有一个烘烤的环节，又称为前烘。

水冷无氧化烘箱，高温无氧烘箱升温方式：程序线性升温降温方式：风冷+水冷辅助降温氧含量：氧含量≤20ppm

真空无氧烤箱，无氧化真空烘箱用于光刻胶BCB，聚酰亚胺PI/CPI固化，BPO固化，LCP纤维热处理，

前烘氮气烘箱，硬烘洁净烘箱优化光刻胶的光学吸收特性，提高光刻胶对衬底的黏附性

外延片烘箱，氮气洁净烘箱延片将所述外延片放入烘箱中,在120℃～140℃的温度下,将所述外延片烘烤10～30分钟

墨点烘箱，墨点氮气烘箱是半导体行业，芯片加工工艺流程中打墨点工艺后，将硅片放入烘箱进行墨点烘干专用设备。

坚膜烘箱，氮气坚膜烤箱的作用是在一定的温度下,对显影后的衬底进行烘焙。这将使光刻胶的表面在表面张力的作用下而圆滑化,并使光刻胶层中的缺陷(如针孑L)因光刻胶表面...

晶圆退火烤箱，500度退火氮气烘箱晶圆退火需进行升温处理，升温处理具有多个升温阶段,每个升温阶段相应的升温速率不同,其中,所述多个区域在每个所述升温阶段中的温度...

无氧烘箱，智能无氧双层烘箱可选用条形码上传IT后，接收由IT比对下载制程数据或直接接收IT所下载制程数据方式，系统并自动将制程写入温控器，达到远程制程下载，避免...

充氮烘箱，充氮洁净烘箱适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IC、PCB板、半导体封装、医药、实验室等生产及科研部门。

百级无尘烘箱，不锈钢无尘烤箱用于IC生产中前烘、后烘烤、坚膜、装片机后端烘烤、塑封封装烘烤、光刻胶固化、治具干燥、薄膜烘烤、硅片干燥等工艺。

有降温功能真空烘箱，300度可降温真空烤箱用于键合预处理，晶圆，芯片，电容，电池，封装，光刻胶固化，PI固化等

充氮真空烘箱，快速降温真空烤箱用于键合材料的真空预处理 、BCB固化、ITO膜退火，PI胶固化等工艺。广泛应用于半导体、电子产品、医疗卫生等行业。

PI固化厌氧烘箱，聚酰亚胺固化炉多次实验后采用阶梯升温过程,亚胺化效果*。采用程控烘箱进行亚胺化,烘箱内为纯N2氛围.

充氮厌氧烘箱，450度厌氧固化炉应用于精密电子元件、聚酰亚胺层（PI）固化烘烤、光刻胶固化、电子陶瓷材料烘干的特殊工艺要求，模拟线性升降温环境，特别适合半导体制...