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Q150TS,高真空镀膜仪厂家 产品概述：

金属溅射或碳蒸发或两者兼备：一体化设计，节约空间 
精细颗粒溅射：高分辨率场发射扫描电镜（FE-SEM）制样的精细镀膜应用 
涡轮分子泵高真空系统：允许不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材的溅射镀膜，大大拓宽了可溅射靶材范围，既适合普通SEM、高分辨率FE-SEM镀膜制样应用，也为许多薄膜应用等材料科研领域提供理想的镀膜平台 
全自动触摸屏控制：快速数据输入，简单操作 
可储存多个客户自定义镀膜方案：对多用户实验室十分理想 
与镀膜过程和镀膜材料相匹配的预编程自动真空控制 
精细的厚度控制：使用膜厚监控选项 
“智能”式系统识别：自动感知用户所装的插入式镀膜头的类型 
高真空碳蒸镀：对SEM和TEM镀碳膜应用非常理想 
蒸发电流波形控制 
Drop-in落入式快换样品台（标配旋转台） 
真空闭锁功能：可让工作腔室处于真空状态，改善后续真空效果，或在真空条件下保存样品 
镀制厚膜能力：一次真空条件下的溅射时间可长达60分钟（材料科研领域的应用） 
人体工程学设计的整体成型机壳：易维护和易拆装 
带有本地FTP服务器连接的以太网端口：简单的程序更新 
设有功率因素补偿，有效利用电能，降低运行成本 
符合当前电器法规（CE认证）

产品参数：

工作腔室：150mm内径 x 127mm高 
触摸屏全图像用户界面 
样品台：标配旋转台 
真空系统： 
涡轮分子泵：带有空气冷却的涡轮分子泵 
旋转机械泵：双级旋转机械泵 
溅射电流：0-150mA；可预设膜厚（需FTM选项）或使用内置定时器 
溅射时间：zui长60分钟 
碳蒸发：稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发，确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳。 
金属蒸发/光阑清洁头：用于源自钨丝篮或舟的金属热蒸发。 
尺寸和重量：仪器机箱：585mm宽x 470mm长 x 410mm高 （总高: 650mm） 
仪器总重量：33.4Kg 

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