HMDS真空烤箱的特点
  来源: 上海隽思实验仪器有限公司

一、HMDS真空烘箱技术参数：

电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2%

输入功率：2400W

控温范围：室温+10℃-250℃

温度分辨率：0.1℃

温度波动度：±0.5℃

达到真空度：133Pa

容积：90L

工作室尺寸（mm）：450*450*450（可选择）

载物托架：2块

二、HMDS真空烤箱的使用优点

1、JS-HMDS真空烤箱预处理性能更好，由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理，所以不会有尘埃的干扰，再者，由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺，同一个容器中进行，晶片在容器里先经过100℃-200℃的去水烘烤，再接着进行HMDS处理，不需要从容器里传出，而接触到大气，晶片吸收水分子的机会大大降低，所以有着更好的处理效果。

2、处理更加均匀，由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。

3、效率高，液态涂布是单片操作，而本系统一次可以处理多达4盒的晶片。

4、更加节省药液，实践证明，用液态HMDS涂布单片所用的药液比用本系统处理4盒晶片所用药液还多；

5、更加环保和安全，HMDS是有毒化学药品，人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等，由于整个过程是在密闭的环境下完成的，所以不会有人接触到药液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机，所以也不会对环境造成污染。