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湖北瑞泽氩气纯化装置

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具体成交价以合同协议为准

产品型号RZ-TYAC-20N

品       牌其他品牌

厂商性质经销商

所  在  地咸宁市

更新时间:2020-12-24 15:28:23浏览次数:1109次

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产品简介
电源方式 交流电 额定电压 380v
额定功率 4500w 额定频率 50Hz
货号 RZ-TYAC-20N    

湖北瑞泽氩气纯化装置,本设备具有体积小,操作简便,能耗小,安全可靠的特点。无需频繁再生及再生无须加氢的特点。

详细介绍

湖北瑞泽氩气纯化装置

  • 湖北瑞泽氩气纯化装置概述

氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气体,为了提高硅晶体的质量,如何选用较高纯度的氩气,是制作硅晶体的一个议题。通过对本装置的使用,氩气的纯度其中氧含量小于1ppm时,水分也小于1ppm时,制作出的单晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm,这样就提高了单晶的使用寿命并能达到要求,赢得客户的满意和市场的需求。

由于一般液氩汽化后未经过纯化处理,它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围,使用氩气的客户不知道其质量,所以往往给生产产品质量造成影响。有了氩气纯化装置后不论氩原料气的质量如何,只要经过纯化装置的处理后,进入拉晶炉的氩气,纯度始终是恒定的。

一般氧含量小于0.5ppm,水分小于1ppm,这样稳定的氩气对生产晶体的质量是有保证的。

  • 关于氩气纯化的方法

*种

直接脱氧法。就是使用活性金属与氩气中的氧气进行反应,消化掉氩气中的氧气,从而达到脱氧的目的,经过分子筛吸收掉氩气中的水份,使氩气的含水量小于1ppm。

    

第二种

    是采用吸气剂。在一定温度下,吸气剂可吸收氮、氢、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等气体经吸收处理后,氩气的纯度可达到6个九,这种保护气体更适用于制作高纯度的半导体的单晶硅。

利用吸气剂纯化后氩气的纯度:

                           O2≤0.2ppm

                           H2≤0.5ppm

                           N2≤1ppm

                           CO+CO2≤0.5ppm

                           CH4≤0.5ppm

                           水份≤1ppm

*种方法设备投资小,设备中脱氧剂的使用寿命一般大于年。

第二种方法设备纯化纯度高但投资相对较大,吸气剂使用寿命为年。

`

  • :本公司也可根据客户要求,直接做高压的,这样就可省掉使用模压机增压工序。

     还可根据客户要求,配备分析仪在线时时检测设备中气体纯度。

三、氩气用途

    高纯氩气用于焊接、不锈钢制造、冶炼,还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气

主要用途:欢迎新老用户选择我公司产品:氩气净化机,氩气净化器,高纯氩气净化,高纯氩气净化设备,高纯氩气纯化设备,高纯氩气纯化装置,YAC系列氩气净化设备,全自动氩气纯化设备,大型氩气净化设备,硅材料行业用氩气净化设备,硅材料用除氧、除水氩气纯化装置,气站氩气净化设备,气站氩气纯化器,气站用高纯氩设备,单晶硅行业用氩气除氧、干燥设备,多晶硅行业用氩气除氧、干燥设备,高纯氩气提纯设备,氩气提纯机,高纯氩气过滤器、

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