陈霞
销售
扫一扫，微信联系
18922517093
当前位置：秋山科技（东莞）有限公司>>其他设备>>等离子体装置>> 日本 acxys 等离子体设备ULCoat系列 氨法脱硫设备
日本 acxys 等离子体设备ULCoat系列
通过在放电后向等离子体中注入前驱体，ULCoat系列可以在处理过的表面上沉积薄膜。
ULCoat是一款可将前驱体汽化并注入等离子体中，后由喷嘴完成薄膜沉积的系统。ULCoat系列需要与ULS OMEGA系列配合使用。
ULCoat系列的标准版本是为了允许使用有机金属作为前驱体进行氧化硅（SiOx）的沉积而设计的。当然，我们也可以根据要求开发其他薄膜成分。
您可以与我们的研发实验室合作，在研发合同的框架下，定制您的专属解决方案。
– 与ULS OMEGA系列搭配使用
– 薄膜沉积
– 沉积厚度范围从50至1000纳米
– 沉积薄膜厚度均匀（+/- 2%）
– 中高处理速度可达200nm.cm²/s
– 专为氧化硅(SiOx)的沉积进行优化
在注入等离子体之前，液态前驱体的流速是可以控制的。该模块由几个部分组成。
– 前驱体储存罐
– 前驱体流量控制单元
– 气体流量控制单元
– 加热器模块（可选）
– 内置触摸屏（OEM版本除外）
– 直观的控制方式
– 多语言界面
– 故障检测和诊断
– 实时显示指令
– 空气
– 氮气
– 其他混合气体
日本 acxys 等离子体设备ULCoat系列
– 工作温度低
– 沉积薄膜厚度均匀（+/- 2%）
– 可以研究其他类型的沉积
– OpenFlow版本可用于开发新的沉积工艺
请输入账号
请输入密码
请输验证码
以上信息由企业自行提供，信息内容的真实性、准确性和合法性由相关企业负责，环保在线对此不承担任何保证责任。
温馨提示：为规避购买风险，建议您在购买产品前务必确认供应商资质及产品质量。
环保在线