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沈阳好智多新材料制备技术有限公司


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电子束物理法提纯设备

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更新时间:2022-11-02 16:30:51浏览次数:112次

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产品简介

「设备用途」采用物理冶金提纯法,主要用于冶金级工业硅粉的提纯,用以制备太阳能级多晶硅原材料

详细介绍

 「设备用途」

           采用物理冶金提纯法,主要用于冶金级工业硅粉的提纯,用以制备太阳能级多晶硅原材料。

产品型号
VEBZ-2
主真空室
卧式圆筒型真空室,尺寸φ1000×2000mm,双层水冷。
主真空室真空获得系统
扩散泵,罗茨泵,机械泵,高真空气动挡板阀。
极限真空度
6.6×10-3Pa(冷态),漏率:≤1×10-7Pa.L/s;压升率:1.33Pa./h。
双枪电子束系统
电子枪漏率:≤1×10-7Pa.L/s;工作真空度6.6×10-1Pa-6.6×10-3Pa.(用户可自己提供)。
加料系统
加料仓设有电动给料装置,硅料块直径不大于30mm,加料仓下面设有电动进料装置,每次加料量为2kg硅料。加料仓和进料机构之间设有电动闸板阀,采用独立真空获得系统。
浇铸系统
设有一套翻转同轴电极。
出料系统
出料仓尺寸
立式U型:φ600×1000,双层水冷,独立真空获得系统。
料框升降机构
液压升降机构。
水冷铜结晶器
内部尺寸:φ300×800。

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