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沈阳好智多新材料制备技术有限公司
设备用途:利用电阻加热产生热能,将待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华,使之在基片表面析出的过程
设备用途:
主要技术指标 | |
真空指标 | 极限真空度:≤7x10-5Pa (经烘烤除气后); 系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S; 系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,40分钟可达到3x10-3 Pa; 停泵关机12小时后真空度:≤20Pa; |
真空室 | 真空室尺寸:Φ300 X 365mm, 上开盖结构,上面焊有观察窗,放气阀、膜厚仪等法兰接口。选用优质不锈钢材料制造,氩弧焊接,表面特殊工艺处理。内壁挂防污板。 |
样品 | 样品盘上可承装Φ150mm以下样品 ,样品盘转速10—60转/分, 转速连续可调。电动控制挡板一套; |
真空获得及测量 | 分子泵+机械泵,数显复合真空计(皮拉尼规+电离规) |
蒸发舟 | 两个蒸发舟,10CC |
蒸发电源 | 3KW,带有微调功能 |
控制系统 | 手动 |
工作压力控制系统 | 手动 |
水冷机组 | 可选 |
石英晶振膜厚仪 | 可选 |
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