产品简介:
EVG 620NT是一款通用性和可靠性*的光刻机,提供*的掩膜对准技术。可选择半自动或全自动配置,满足大批量生产和Fab标准。
主要特点及参数:
·支持6英寸(150mm)晶圆
·支持易碎、薄片及翘曲晶圆的处理,可快速转换多尺寸晶圆
·全自动顶部及底部对准:
顶部对准精度≤±0.5μm
底部对准精度≤±1μm
红外对准精度≤±2μm(取决于衬底材料)
·支持汞灯或的UV-LED光源
·支持半自动原位升级为全自动
·可选配功能:
键合对准
红外对准
纳米压印光刻(NIL)
产品简介:
EVG 620NT是一款通用性和可靠性*的光刻机,提供*的掩膜对准技术。可选择半自动或全自动配置,满足大批量生产和Fab标准。
主要特点及参数:
·支持6英寸(150mm)晶圆
·支持易碎、薄片及翘曲晶圆的处理,可快速转换多尺寸晶圆
·全自动顶部及底部对准:
顶部对准精度≤±0.5μm
底部对准精度≤±1μm
红外对准精度≤±2μm(取决于衬底材料)
·支持汞灯或的UV-LED光源
·支持半自动原位升级为全自动
·可选配功能:
键合对准
红外对准
纳米压印光刻(NIL)
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