产品简介:
EVG IQ Aligner NT是IQ Aligner光刻工艺平台的升级款,在对准精度、处理速度上都有较大提升,适用于大型生产线。
主要特点及参数:
·支持12英寸(300mm)晶圆
·支持易碎、薄片及翘曲晶圆的处理。
·全自动顶部及底部对准:
顶部对准精度≤±0.25μm
底部对准精度≤±0.5μm
·支持Casettes, SMIF或FOUP上料
·可选配功能:
红外对准(透射或反射)
产品简介:
EVG IQ Aligner NT是IQ Aligner光刻工艺平台的升级款,在对准精度、处理速度上都有较大提升,适用于大型生产线。
主要特点及参数:
·支持12英寸(300mm)晶圆
·支持易碎、薄片及翘曲晶圆的处理。
·全自动顶部及底部对准:
顶部对准精度≤±0.25μm
底部对准精度≤±0.5μm
·支持Casettes, SMIF或FOUP上料
·可选配功能:
红外对准(透射或反射)
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