thermocera纳米CVD石墨烯/碳纳米管合成器
◉ 型号。 纳米CVD-8G（用于石墨烯合成）
◉型号。 纳米CVD-8N（用于碳纳米管）
每批仅需 1 分钟，可轻松合成高质量石墨烯和碳纳米管
CVD（化学气相沉积）
CVD法是一种稳定的技术，已经建立了多种用途，它是未来大规模合成石墨烯和碳纳米管的最现实的方法，因此我们在这台机器中采用了CVD方法。 制造商Moorfield与英国国家研究所合作，多次验证了这种薄膜沉积实验装置。 在与研究机构的合作下，已经验证了使用拉曼光谱，SEM，AFM等分析数据可以制备高质量的石墨烯和CNT样品。
冷壁CVD
采用冷壁/高温样品加热台（热板），反应快，重现性好。 设备小型化，加工时间缩短，可操作性强，可创建并存储30种合成配方。 除了标准系统配置外，还可以根据要求定制设备配置。 nanoCVD系统是一种实验装置，尽管体积小，但具有为基础研究和开发领域做出贡献的无限潜力。
特征
无需使用大型设备即可轻松进行石墨烯碳纳米管 （SWNT） 沉积实验
1批次只需30分钟！
冷壁式高效高精度过程控制
快速升温：室温→1100°C约3分钟
高性能机器，具有高精度的温度流量控制和出色的可重复性
操作简单！ 通过 5 英寸触摸屏进行操作和配方管理
最多可创建和保存 30 个配方和 30 步合成程序。
标配专用软件，数据记录为输出PC上的CSV文件
USB电缆连接，PC端的配方创建→上传到设备
主要规格
A. 主要规格
| 1. 反应室 | 不锈钢SUS304泄漏检查 |
|---|---|
| 2. 加热阶段 | 陶瓷 |
| 3. 兼容的样本量 | 20 x 40毫米 |
| 4. 加热加热器 | 高纯石墨加热器MAX1050°C |
| 5. 温度控制 | 包括K型热电偶标准（安装在加热台下方） |
B. 过程控制设备规格
| 1. 气体控制 | 质量流量控制器 x 3 （Ar， H2， CH4） |
|---|---|
| 2. 压力控制 | 20托尔· |
| 3. 真空抽真空 | 包括爱德华兹旋转泵RV3（3㎥/小时） |
| 4. 操作面板 | 前置式 5 英寸触摸屏 （欧姆龙） |
| 5. 风冷 | 通过冷却风扇对外壳进行内部冷却 |
| 6. 控制系统 | PLC自动过程控制 |
C. 软件（包括标准）
| 1. 纳米CVD软件 | 包括标准（安装石墨烯的标准程序） |
|---|---|
| 2. 界面 | USB 2.0 连接 |
| 3. 设置次数 | 最多可以创建和保存 30 个配方和 30 个步骤 |
D. 气体引入连接规格
| 1. 工艺气体 | 2 x 4/1 英寸世伟洛克卡套管连接，用于 Ar、H4、CH3 |
|---|---|
| 2. 载气 | N2 或 AR φ6mm 推锁管连接 x 1 |
E. 安全装置
| 1. 过热 | 由安装在加热台上的热电偶控制 |
|---|---|
| 2. 外壳内部过热 | 从内部温度开关 |
| 3. 气压异常 | 从质量流量控制器 |
| 4. 真空减少 | 从真空传感器 |
F. 公用事业
| 权力 | AC200V 单相 50/60Hz 13A |
|---|---|
| 1. 工艺气体压力 | 最大 30psi 200sccm |
| 2. 载气压力 | 60-80磅/平方英寸 |
G. 尺寸和重量
| 1. 尺寸 | 405毫米（宽） x 415毫米（深） x 280毫米（高） |
|---|---|
| 2. 重量 | 约27公斤 |
