日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需300万倍稳定观察的半导体器件,高分辨成像所设计。
新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。
0.4nm / 30kV(SE)
1.2nm / 1kV(SE)
0.34nm / 30kV(STEM)
用改良的高真空性能和电子束稳定性来实现高效率截面观察。
日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000采用全新设计的Super E x B能量过滤技术,高效,灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。
核心参数
价格区间:500万-700万
电子枪种类:冷场发射
二次电子图象分辨率:0.4nm@30kV,1.2nm@1kV
放大倍数:220~8,000,000
加速电压:0.5~30kV