开启微纳3D精密制造之门
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BMF nanoArch® P150 系统简介
nanoArch P150是可以实现实现高精度微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前前景的微纳加工技术之一。
科研级3D打印系统
nanoArch® P150是科研级3D打印系统,拥有25μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
nanoArch® P150 系统性能
光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏树脂 | 光学精度 25μm |
XY打印精度 50~200μm | 打印层厚 10~50μm | 打印样品尺寸 48mm(L)×27mm(W)×50mm(H) |
打印文件格式 STL(单材) | 系统外形尺寸 530mm(L)×540mm(W)×700mm(H) | 重量 300kg |
电气要求 200~240V AC,50/60HZ,2KW | 其他要求 部分工艺可选配加速模块及涂层模块 | 设备功率 2000W |
打印材料
通用型
丙烯酸类光敏树脂,比如HDDA,PEGDA等。
个性化
高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物科研树脂等。
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系统特点
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的供料系统和涂层技术
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具有高精度微尺度多材料的打印能力
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微尺度大幅面的打印能力
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光学监控系统,自动对焦功能
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优良的光源稳定性
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配备完善的样品后处理组件 包括抽真空及紫外后固化
应用案例
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