从碳化硅高端粉体进口替代、高纯氧化铝半导体应用,到氮化铝粉体产业化、纳米陶瓷粉体检测——一场汇聚顶尖学术力量与行业领军企业的技术盛会,2026第三届先进陶瓷粉体制备及应用技术研讨会将于10月29日在上海跨国采购会展中心召开。
01 大会亮点
核心材料全覆盖:碳化硅(SiC)、氧化铝(Al₂O₃)、氮化铝(AlN)三大先进陶瓷粉体体系
产业链全覆盖:从粉体制备→检测仪器→标准制定→终端应用→后处理
紧扣行业痛点:进口替代、高端粉体可控制备、半导体级纯度要求、湿法合成洗涤提纯
02 会议议程
会议时间:10月29日13:30-16:30
会议地点:上海跨国采购会展中心2号会场
13:30-13:50
碳化硅高端粉体的制备及进口替代产业化应用
王志江 哈尔滨工业大学 教授
13:50-14:10
高纯氧化铝在先进陶瓷领域的应用
杨丛林 中铝山东有限公司高纯氧化铝事业部 经理
14:10-14:30
麻小挺 瑞芯智造(深圳)科技有限公司 技术总监
14:30-14:50
氮化铝粉体制备技术及应用简介
成罗 宁夏北瓷新材料科技有限公司 粉体事业部负责人
14:50-15:10
超微细氧化铝粉体可控制备及应用开发进展
施利毅 上海大学 教授
15:10-15:30
面向半导体与AI算力新基建用高纯氧化铝陶瓷粉体
王程民 上交赛孚尔(包头)新材料有限公司 副总经理
15:30-15:50
先进陶瓷粉体密度试验标准介绍
蒋丹宇 中国科学院上海硅酸盐研究所 研究员
15:50-16:10
用于高强度低磨耗氧化铝研磨介质的氧化铝粉体制备技术
侯宪钦 山东大行新材料有限公司 首席科学家
16:10-16:30
面向湿法合成陶瓷粉体洗涤提纯过程的动态精准固-液分离技术与应用案例
卫旺 江苏道同环境科技有限公司 董事长
10月29日,上海,与大家一起解锁先进陶瓷粉体的制备密码!
🔘 IPIE2026 展会信息
时间:2026年10月28-30日
📍 地点:上海跨国采购会展中心
🎫 规模:12000㎡展览面积 | 10000+专业观众 | 10+同期论坛
🔥 全场展位仅剩5%,预定从速
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