当前位置:苏州吉米诺仪器有限公司>>产品展示>>加热制冷浴槽>>低温恒温水槽
低温恒温槽MD40系列.温波动度达到±0.05℃,提供热冷受控,温度均匀恒定的场源,也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源
超低温恒温装置(-90℃~100℃)采用复叠式压缩制冷,噪音低,制冷效率高,可以提供热冷受控,温度均匀恒定的液体环境,也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷...
低温恒温水槽(-20℃~100℃)MD20系列,恒温波动度达到±0.05℃,提供热冷受控,温度均匀恒定的场源,也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制...
定制低温恒温循环槽MD20-5P,容积5L,控温范围-5℃~100℃,高达至温度100℃,作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源,用于低温测量和检定...
低温恒温反应槽(-20℃~90℃)可直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源,用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制,半导体扩散炉扩散工艺控制,低温测量...
低温恒温水槽MD5-4,容积4.5L,控温范围-5℃~90℃,温度波动度0.05℃,提供热冷受控,温度均匀恒定的场源,用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制,...
MD30-30加热制冷浴槽(-30℃~90℃),容积30L,控温范围-30℃~90℃,用于石油化工、制药及半导体工业等领域低温测量与检定,样品保存等浸入式实验或...
低温恒温循环槽 MD20-20可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源,用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制,半导体扩散炉扩散工艺控制,低温测量...
大容量加热制冷浴槽MD30-100,容积100L,控温范围:-30℃~90℃(高至温度100℃),可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源,用于-3...
MD5-12低温恒温循环槽(-5℃~90℃)提供热冷受控,温度均匀恒定的场源,可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源,整个量程范围的温度精确控制,...
低温恒温水槽-5℃~90℃,MD5-30提供热冷受控,温度均匀恒定的场源,可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源,整个量程范围的温度精确控制,恒温...
低温恒温循环槽MD10-8低温恒温槽提供热冷受控,温度均匀恒定的场源,可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源,整个量程范围的温度精确控制,恒温波动...
低温恒温循环槽(-20℃~90℃)可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源,用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制,半导体扩散炉扩散工艺控制,低温...
低温恒温循环槽(-20℃~90℃),MD20-12,容积12L,控温范围-20℃~90℃,高至温度100℃,作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源,...
超低温恒温槽(-60℃~90℃)应用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制,半导体扩散炉扩散工艺控制,低温测量和检定,样品保存等浸入式或外循环应用,可以提供热冷...
加热制冷浴槽(-30℃~90℃)主要有压缩机、冷凝器、节流阀、换热器、循环泵、加热器等几大件组成,用于-30℃石油化工、制药等化学反应工艺过程控制,半导体扩散炉...
请输入账号
请输入密码
请输验证码
以上信息由企业自行提供,信息内容的真实性、准确性和合法性由相关企业负责,环保在线对此不承担任何保证责任。
温馨提示:为规避购买风险,建议您在购买产品前务必确认供应商资质及产品质量。